ВНИМАНИЕ! На форуме началось голосование в конкурсе - астрофотография месяца ЯНВАРЬ!
0 Пользователей и 1 Гость просматривают эту тему.
Кто-то выше всплакнул над QE 662-го чипа. Но переведите его в Relative Response - там же получится 100+ на 850нм
ИИ утверждает у сенсора чувствительность около 50% на 850нм... Но с другой стороны 50% маловато для для такой камеры..
это я. постигаю почти с ноля физику, увлекаясь астронаблюдениями. Почему утёр слезу? недавно купил ir pass 685 нм от свбони, жду неба чтобы пофотографировать Луну (м.б. Юпитер, Марс) и сравнить эффективность (в надежде снизить сферичку деагостини). И вдруг вижу, что QE снижается после 700 нм, а про RR я вообще до сегодня ничего не знал.
Есть ли такая практика?
Кто-то может найти график QE на камеру asi 678MM ? на цв находил, на моно не могу найти.. сайт ZWO не выдал инфу
Идея была создавать RGB+ (или прочие ложные ) палитры в ИК-режиме... на Алике есть ИК-фильтры разной длины, шириной 20-30нм. Идея Авантюрная. но стоящая для реализации..
..Что если график размечен как «Relative»?Если по вертикальной оси указаны значения от 0 до 1 (или до 100%), это Relative QE (относительная эффективность). Она показывает форму чувствительности сенсора, принимая его максимум за 100%...
..И я бы немножечко приподнял этот график из расчёта, что 83% не в максимуме, а в зелёной области, например на волне 550 нанометров. Потому что ЧБ график не может проходить ниже цветного графика ни в какой точке, в частности на 850 НМ.
Вполне может, просветление в узких спектральных полосах цветной мозаики может быть (и должно быть) эффективнее, чем широкополосое просветление монохромного варианта.
В настоящее время захват цвета видимыми датчиками изображения CMOS или CCD осуществляется с помощью пигментированных или легированных красителями органических цветных резистов, расположенных в байеровском массиве, интегрированном на пиксельном массиве, под микролинзами. Технология оптимизирована для обеспечения точной настройки спектральных характеристик красных, зеленых и синих (RGB) фильтров, а также недорогой интеграции с ограниченным числом технологических этапов, хорошо контролируемых в микроэлектронных цехах.Поскольку органические резистивные фильтры частично прозрачны в ближнем инфракрасном диапазоне, они традиционно связаны с дополнительным, неструктурированным, инфракрасным отсекающим фильтром. Этот фильтр обычно находится внутри системы формирования изображения. Он состоит из большого количества диэлектрических слоев, обеспечивающих как высокую пропускающую способность в видимом диапазоне, так и низкую пропускающую способность в ближнем инфракрасном диапазоне, что позволяет обеспечить правильную цветопередачу.Кроме того, по мере уменьшения размера пикселя возникает необходимость в уменьшении расстояния между нижней частью микролинз и кремниевой границей раздела [1] для поддержания высокой эффективности сбора фотонов и низкого уровня оптических перекрестных помех. Хотя высоту задней части стека можно уменьшить путем травления полости [2], слои органического резиста практически невозможно сделать тоньше без ущерба для эффективности фильтрации.Были предложены и другие типы цветных фильтров для видимого диапазона с уменьшенной толщиной: неорганические пленки, полученные методом металлоорганического химического осаждения из паровой фазы [3], аморфные кремниевые пленки переменной толщины [4] или субволновые структурированные металлические решетки [5]. Но они все еще требуют дополнительного фильтра, отсекающего инфракрасное излучение, или демонстрируют спектральные характеристики, относительно отличающиеся от функций цветового соответствия, а также относительно низкую пропускающую способность, что неизбежно приводит к цветовым ошибкам или ухудшению отношения сигнал/шум после восстановления цвета. Другое исследование было посвящено структуре фотонного кристалла с чередующимися диэлектрическими слоями с высоким и низким показателем преломления для реализации комплементарных фильтров [6], основанных на небайеровской конфигурации, включающей инфракрасную фильтрацию, что исключает необходимость во внешнем фильтре. Однако качество цветных изображений страдает от неидеальной формы спектральных характеристик и от операций вычитания, необходимых для извлечения сигналов RGB. Кроме того, высота фильтра остается большой, более одного микрометра.В недавней работе [7] сообщается о демонстрации эталона Фабри-Перо Ag-SiO2-Ag с переменной толщиной резонатора для настройки длины волны передаваемого излучения от синего до красного, сочетающего в себе преимущества малой толщины (несколько сотен нанометров), большого подавления инфракрасного излучения и сниженной угловой чувствительности по сравнению с полностью диэлектрической многослойной структурой.В данной статье мы предлагаем продолжить этот подход с использованием металло-диэлектрических фильтров, применяя двойные резонаторы Фабри-Перо [8] для оптимизации характеристик системы обработки изображений, и демонстрируем первую интеграцию металло-диэлектрических фильтров RGB с толщиной цветных резистов вдвое меньшей, чем у CMOS-датчиков изображения с шагом пикселя 1,75 мкм, без необходимости использования инфракрасного отсекающего фильтра.
Ставим этот поляризатор между двумя перекрестными поляриками
недавно купил ir pass 685 нм от свбони, жду неба чтобы пофотографировать Луну (м.б. Юпитер, Марс) и сравнить эффективность (в надежде снизить сферичку деагостини)
Сферическое же ГЗ имеет одинаковое значение сф. аберрации для всех длин волн
А для матрицы камеры волновая ошибка в 2 раза меньше будет (по сравнению с синим цветом).